本人自2012年新加坡国立大学（2020年QS排名11）硕士毕业后赴澳大利亚莫纳什大学（2020年QS排名58）攻读博士。现就职于世界知名高校墨尔本大学（2020年QS排名38），任职研究员并且负责高校与工业合作项目管理工作。本人始终致力于功能性纳米新材料合成制备研究，并重点研究先进纳米材料在光电领域方向应用，有着多年材料合成表征和先进纳米加工技术经验，熟悉各类半导体加工工艺，其中包括掩模版光刻技术，深紫外直写技术，高分辨电子束曝光技术，聚焦离子束刻写技术。本人发表过超过30篇相关领域国际论文。其中包括 4篇第一作者SCI期刊论文，多篇ACSNano， Advanced Materials，Advanced Factional Material， Chemistry of Materials等高影响因子论文， 根据 ResearchGate 网站统计论文总阅读量超过11091次，总引用超过1485次。这些理论与技术在新材料加工和器件制作领域，薄膜材料印刷行业，近场光学研究，和特种光学薄膜加工研发等前沿产业解决了大量实际问题，应用于不同行业领军企业的各类产品。

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